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美国半导体工业用纯水指标

浏览次数:496次发表时间:2017-07-20

 

项 目

Ⅰ级

Ⅱ级

Ⅲ级

Ⅳ级

残渣,mg/L

0.1

0.3

0.3

0.5

TOC,mg/L

0.02

0.05

0.10

0.40

颗粒,粒/L

500

1000

2500

5000

细菌数,个100mL

0

6

10

50

活性硅SiO2,μg/L

3

5

10

40

电阻率MΩ·cm

18.3

17.9

17.5

17.0

阳离子,μg/L

0.2

2.0

5.0

*

铝 Al3+

0.2

2.0

5.0

*

铵 NH4+

0.3

0.3

0.5

*

铬 Cr6+

0.02

0.1

0.5

*

铁 Fe 3+

0.02

0.1

0.2

*

铜 Cu 2+

0.02

0.1

0.5

*

锰 Mn 2+

0.05

0.5

1.0

*

钾 K +

0.1

0.3

1.0

4.0

钠 Na +

0.05

0.2

1.0

5.0

锌 Zn 2+

0.03

0.1

0.5

*

阴离子,μg/L

0.1

0.1

0.3

*

溴 Br -

0.1

0.1

0.3

*

氯 Cl -

0.05

0.2

0.8

*

亚硝酸根 NO2-

0.05

0.1

0.3

*

硝酸根 NO3-

0.1

0.1

0.5

*

磷酸根 PO43-

0.2

0.2

0.3

*

硫酸根 SO42-

0.05

0.3

1.0

*

 

*此值未定。



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